用于高亮度LED的ST50S-LED纳米压印设备的开发(有助于LED元件的高亮度)

2011年5月18日

ST50S-LED
ST50S-LED

我们开发的纳米压印设备st50 -LED进一步提高了LED元件的亮度,并将在5月19日至21日在Numazu总部/工厂和Gotemba工厂举行的2011第9届东芝机器集团解决方案展上展示。

在快速增长的LED市场上,高亮度变得越来越重要。
纳米刻印技术是提高亮度的关键,因为它通过在蓝宝石基片(包括形成化合物半导体膜的基片)上制作三维图案来提高内部量子效率和外部发光效率,从而使LED具有更高的亮度。

结合我们积累的压印技术和基于挤出机涂布技术的辊对辊技术,我们开发了用于高亮度LED的ST50S-LED纳米压印设备。该设备能够自动地在整个表面UV印记,在弯曲的LED基片上形成纳米级的精细形状。

本设备的特点和基本规格

  • 支持f4英寸LED基片。
  • 在薄膜模式下,可在曲面晶圆片的整个表面上进行UV压印。
  • 配有自动装载机,可进行全自动压印。

我们将定价为1.5亿日元,并在第一年售出10台。

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